晶片新創獨角獸Substrate橫空出世! 狂言挑戰ASML與台積電 | 科技

晶片新創獨角獸Substrate橫空出世! 狂言挑戰ASML與台積電

發布 2025.10.30 16:12

Substrate聯合創辦人兼執行長James Proud。圖:翻攝自芯東西

一個剛露面的美國晶片設備新創企業 Substrate，已成為新晉半導體獨角獸。該公司宣稱，計劃挑戰光刻機巨頭 ASML 及晶圓代工龍頭台積電，並提出打造美國自有晶圓廠網路的長期目標。

Substrate 近日完成 1 億美元種子輪融資，公司估值突破 10 億美元。據官網介紹，Substrate 開發出新型先進 X 射線光刻技術，利用粒子加速器產生更短波長的 X 射線光源，以生成極窄光束，實現 2 奈米級半導體節點的分辨率。公司表示，其光刻設備可媲美 ASML High-NA EUV 機器的性能，並具有潛在的超越能力。

Substrate 的團隊還設計了一種垂直整合代工模式，利用加速器產生的光束直接驅動光刻工具。官網指出，每台光刻設備均採用全新光學與高速機械系統，可承受頂尖晶圓廠所需的高 G-force。公司計劃到 2030 年將晶圓成本降至約 1 萬美元，而非目前的 10 萬美元。

Substrate 聯合創始人兼首席執行官 James Proud 在接受採訪時表示，公司首要目標是在美國以最低成本大批量生產高品質晶圓。他指出，實現美國重回半導體生產主導地位的關鍵，是打造新型、更垂直整合的代工廠，並在性能和成本上推動摩爾定律。

Substrate 計劃於 2028 年開始在美國建設自有晶圓廠，配備自研光刻機進行大規模晶片生產。該公司大部分設備均內部生產，且摒棄了傳統多重曝光工藝，降低晶片製造成本。

Substrate 的投資方包括彼得·泰爾（Peter Thiel）的 Founders Fund、General Catalyst 與 Valor Equity Partners。公司目前員工約 50 人，背景涵蓋 IBM、台積電、Google、應用材料及多家國家實驗室，其中不乏參與過 EUV 技術早期開發的資深研究人員。