荷蘭政府於（ 8 日）宣布，將擴大對全球知名半導體設備製造商 ASML 旗下 19070i 和 1980i 深紫外線浸沒式光刻工具的出口限制。此舉旨在使荷蘭的出口限制與美國去年單方面發布的措施保持一致，進一步限制中國取得先進晶片製造設備。
針對荷蘭限制政策，北京政府多次表達不滿，並批評華盛頓持續向荷蘭、日本等盟友施壓，迫使他們加入出口管制行列，以削弱中國獲取高端晶片設備的能力。
中國商務部發表聲明，強烈譴責美國為維護自身全球霸權，泛化國家安全概念，脅迫部分國家加嚴半導體及相關設備的出口管制。聲明中表示，這些措施嚴重威脅全球半導體產業鏈和供應鏈的穩定，損害相關國家和企業的合法權益。中方堅決反對這些限制，並呼籲荷蘭「尊重市場規則和國際契約精神」，避免出口管制影響兩國半導體行業的正常合作與發展。
美國政府過去一年通過外交手段，已成功阻止荷蘭 ASML 公司向中國出口其最先進的極紫外線（ EUV ）光刻設備。荷蘭商務部在 6 日的聲明強調，擴大出口限制是基於「荷蘭自身安全利益」的考量，並非單純出於外部壓力。
