據《彭博社》報導，美國和荷蘭即將於本月進行新一輪對談，以限制中國取得先進晶片技術。美國決定擴大對盟友施壓，目的在禁止荷蘭最大半導體製造設備商艾司摩爾（ASML），向中國出售成熟的晶片製造設備。

白宮國家安全委員會高級主任Tarun Chhabra、商務部副部長Alan Estevez將負責本次對談，美方不認為新一輪會談就能達成結果。美國表示，這次會談的性質比較偏向雙邊諮詢，兩方的討論將觸及美荷科技合作的其他議題。

美國政府正在說服盟友配合其出口管制政策，使最新的晶片技術不被中國軍方掌握。而在全球晶片產業鏈中，擁有獨一無二技術的ASML更是關鍵。美國持續施壓荷蘭禁止ASML出售多種晶片設備給中國，已有一段時間，他們需要ASML加入其隊伍中，以便對中國施加最大的壓力，並擔心如果盟友拒絕配合，新一輪的限制措施將隨著時間的推移而失去效力。

目前全球晶片設備市場有5家供應商主導，包括美國的應用材料公司（Applied Materials）、科林研發（Lam Research）、科磊（KLA），另外還有荷蘭的ASML和日本的東京威力科創（Tokyo Electron Limited）。

ASML雖然無法獲得荷蘭政府批准，向中國銷售最先進的極紫外光刻機（EUV）設備，但至目前為止，ASML仍可向中國客戶銷售其他產品，受到美國新的出口管制影響小於美國同業，因此美方積極說服荷蘭與ASML配合更大的中國半導體禁令。美國官員還一直在推動ASML停止向中國出售浸潤式光刻機（Immersion lithography），這是其僅次於EUV的第2大先進產品。