荷蘭光刻機龍頭ASML公佈第三季財報,凈銷售額達 75 億歐元,與去年同期基本持平,凈利潤為 21 億歐元。設備核心收入中,DUV 系統貢獻 34 億歐元,EUV 系統為 21 億歐元。隨著全球晶圓廠推進 2 奈米及更先進製程,ASML 新接訂單總額達 54 億歐元,其中 EUV 設備佔 36 億歐元,顯示先進光刻需求明顯增長。
公司表示,本季毛利率為 51.6%,維持在預期區間,反映關稅與成本壓力有限。研發投入達 11 億歐元,較去年略增。ASML 對第四季展望樂觀,預期凈銷售額將介於 92 億至 98 億歐元,毛利率仍維持在 51%至 53%之間。執行長傅恪禮指出,近期半導體產業出現「積極消息流」,不確定性明顯下降,AI應用與先進製程需求將成為未來主要成長動能。
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不過,ASML 也提到,中國市場的高成長階段已近尾聲。受出口管制與客戶提前囤貨影響, 2026 年在華銷售將顯著下降,從 2024 至 2025 年的高點回落至「更合理水準」。由於中國市場以高毛利的 DUV 機型為主,該業務下滑可能對整體毛利率帶來稀釋效應。
在產能與長期規劃方面,ASML 表示,AI 驅動的先進邏輯晶元與 DRAM 需求正在提升,公司正擴充 EUV 與 High-NA 產能以滿足 2026 年前後的市場需求。儘管短期內訂單仍有波動,但管理層認為行業結構正趨健康,客戶群體也更為多元,有助於避免產能過度集中於單一廠商。

此外,ASML 宣布對生成式 AI 公司 Mistral AI 投資 13 億歐元,持股約 11%,雙方將合作在光刻機控制與製造優化中導入 AI 演算法。公司指出,AI 應用的高商業價值正在推動晶片製造商加速邁向先進節點,這將長期支撐 EUV 及 High-NA 光刻機需求。整體而言,ASML 對未來市場展望審慎樂觀,並認為 AI 浪潮將成為推動半導體產業下一階段成長的關鍵力量。

台積電引進艾司摩爾(ASML)最先進的高數值孔徑極紫外光(High NA EUV)微影設備,市值相當於三架F-35戰鬥機。 圖:翻攝自X / @StockSavvyShay